פוטומאסק ג’אפון 2027
Photomask Japan 2027 היא התכנסות השלישית-ה-33 בנושא טכנולוגיות פוטומאסק ו-NGL מאסק, שתתקיים ביום רביעי, 7 באפריל, ועד יום שישי, 9 באפריל 2027, בחדר ההרצאות של PACIFICO YOKOHAMA, במקום 1-1-1 Minato Mirai, Nishi-ku, Yokohama 220-0012, יפן.
הסימפוזיון נערך על ידי Photomask Japan ו-SPIE, ובשיתוף עם BACUS ו-EMLC. האירוע כולל תצוגה טכנית בשיתוף עם SEMI Japan. השפה הרשמית של האירוע היא אנגלית. התוכן של האירוע כולל: חומרים לייצור מסכי פוטומסק, שלבי ייצור המסכים והציוד הנדרש לפיתוח, חיתוך וניקוי המסכים; כלים וטכנולוגיות לכתיבה על מסכים, כולל כלים להכנת מסכים באמצעות קרני אלקטרוניות; כלים וטכנולוגיות למיפוי, בדיקה ותיקון המסכים; טכנולוגיות ותשתיות לייצור מסכים EUVL, NIL ו-FPD; טכנולוגיות EDA, MDP, ILT ו-DTCO; מסכים עם טכנולוגיות RET כמו PSM, OPC, SMO וטכנולוגיות לילותורפיה אחרות; טכנולוגיות לילותורפיה הקשורות למסכים; טכנולוגיות לייצור מסכים NGL ושימושיהן; אסטרטגיות ואתגרים עסקיים בנושא פתרונות למסכים; טכנולוגיות לייצור מעגלים חשמליים; טכנולוגיות לפקיקה מתקדמות; טכנולוגיות לכתיבה ישירה על מסכים; שימוש בבינה מלאכותית לצורך פיתוח ויעילות ייצור; וכלים עתיקים לייצור מסכים. יש גם סצנה מיוחדת שעוסקת בטכנולוגיות לילותורפיה במסגרת האקדמיה, עבור סטודנטים וחוקרים בדרגת דוקטורט. לאירוע יש גם פרסים לאקדמיים.
המאמרים נשלחים באופן אלקטרוני בפורמט PDF, דרך אתר PMJ. מועד הסגירה של המאמרים הוא ה-30 בנובמבר 2026, ומועד הסגירה של הכתבים העותקיים הוא ה-31 במרץ 2027. ההודעות על קבלת המאמרים יישלחו באמצעות אימייל, לפני סוף ינואר 2027. משרד פוטומסק ג’פאן ממוקם ב-PCO, Inc., 2-25 סאקוראבאשידורי, טויאמה 930-0004, יפן ([email protected]). תיאום ענייני כתבים שיוצגו בכתבי עת SPIE נעשה על ידי [email protected].
רוצים להירשם לקבלת פרסים או להשתתף בחלוקה של פרסים? ראו את ההרשמות המתאימות.
מפת המקום והמלונות השונים שנמצאים בסביבה
יוקוהאמה – פסיפיקו יוקוהאמה, קנאגאוואה, יפן